半導(dǎo)體含硅廢水如何達(dá)標(biāo)排放?
半導(dǎo)體含硅廢水如何達(dá)標(biāo)排放?作為5G反戰(zhàn)后的新興行業(yè)半導(dǎo)體得到了大力的發(fā)展,大大小小的工廠在全國各地建成,頻發(fā)的污染問題也讓半導(dǎo)體廢水成了近些年環(huán)保新賽道。
一、含硅廢水達(dá)標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)
半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中會用大量化學(xué)物質(zhì)和重金屬,廢水以含氟廢水、含銅廢水、含氨廢水為主,水質(zhì)整體復(fù)雜,污染物含量較高,對環(huán)境有較大污染。
怎樣才算廢水達(dá)標(biāo)呢?根據(jù)半導(dǎo)體行業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn),文件對廢水中的重金屬鎘、鉻、砷、鉛、鎳、銀有明確標(biāo)注排放濃度,氧化物、硫化物、氰化物、懸浮物、COD、BOD、氨氮、有機(jī)碳的日均值也做出明確規(guī)定。
二、含硅廢水處理裝置
通過分析半導(dǎo)體工廠排出的廢水,我們了解到料液呈堿性,水中含硅量較高,高溫條件下對金屬材質(zhì)有較強(qiáng)的化學(xué)腐蝕性。根據(jù)上述情況和半導(dǎo)體行業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn),方案設(shè)計(jì)為綜合工藝由除硅、濃縮兩部分組成。
濃縮部分是回收資源和廢水處理的關(guān)注點(diǎn),因?yàn)楦邷卣舭l(fā)物料存在腐蝕危險(xiǎn),所以選擇了蒸發(fā)溫度較低但效率高又節(jié)能的MVR蒸發(fā)技術(shù),通過對蒸發(fā)產(chǎn)生的二次蒸汽進(jìn)行升壓升溫二次利用,達(dá)到一個(gè)循循環(huán)穩(wěn)定的蒸發(fā)情況,物料能在低溫下穩(wěn)定蒸發(fā),不僅能減少熱源消耗,接觸面腐蝕問題還能減少含硅物料的結(jié)垢問題。
完成蒸發(fā)后的廢水進(jìn)行固液分離,得到的結(jié)晶體排出設(shè)備外,濃液繼續(xù)返回處理裝置中,蒸汽則冷凝成水收集再利用。
三、含硅廢水處理裝置優(yōu)勢
綜合來說含硅廢水處理設(shè)備能達(dá)到環(huán)保要求,回收的資源能在工廠內(nèi)得到實(shí)際再利用,整套設(shè)備的性價(jià)比較高,配備自動(dòng)控制系統(tǒng),耐負(fù)荷、占地面積小、穩(wěn)定性高、運(yùn)行成本低工藝成熟且節(jié)能。
來源:MVR蒸發(fā)器廠家-青島康景輝www.ssomo.com
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